Tetraclorid Hafniwm | Powdr HfCl4 | CAS 13499-05-3 | pris ffatri

Disgrifiad Byr:

Mae gan hafniwm tetraclorid gymwysiadau pwysig fel rhagflaenydd ocsid hafniwm, catalydd ar gyfer synthesis organig, cymwysiadau niwclear, a dyddodiad ffilm denau, gan dynnu sylw at ei hyblygrwydd a'i bwysigrwydd mewn amrywiol feysydd technolegol.

More details feel free to contact: erica@epomaterial.com

Anfonwch e-bost atom ni

Manylion Cynnyrch

Tagiau Cynnyrch

Disgrifiad Cynnyrch

Cyflwyniad byr

Enw Cynnyrch: Hafniwm tetraclorid
Rhif CAS: 13499-05-3
Fformiwla Cyfansawdd: HfCl4
Pwysau Moleciwlaidd: 320.3
Ymddangosiad: Powdr gwyn

Manyleb

Eitem	Manyleb
Ymddangosiad	Powdwr Gwyn
HfCl4+ZrCl4	≥99.9%
Zr	≤200ppm
Fe	≤40ppm
Ti	≤20ppm
Si	≤40ppm
Mg	≤20ppm
Cr	≤20ppm
Ni	≤25ppm
U	≤5ppm
Al	≤60ppm

Cais

Rhagflaenydd Hafniwm DeuocsidDefnyddir tetraclorid hafniwm yn bennaf fel rhagflaenydd i gynhyrchu deuocsid hafniwm (HfO2), deunydd sydd â phriodweddau dielectrig rhagorol. Defnyddir HfO2 yn helaeth mewn cymwysiadau dielectrig k uchel ar gyfer transistorau a chynwysyddion yn y diwydiant lled-ddargludyddion. Mae HfCl4 yn hanfodol wrth gynhyrchu dyfeisiau electronig uwch oherwydd ei allu i ffurfio ffilmiau tenau o deuocsid hafniwm.
Catalydd synthesis organigGellir defnyddio tetraclorid hafniwm fel catalydd ar gyfer amrywiol adweithiau synthesis organig, yn enwedig polymerization olefin. Mae ei briodweddau asid Lewis yn helpu i ffurfio canolradd gweithredol, a thrwy hynny wella effeithlonrwydd adweithiau cemegol. Mae'r cymhwysiad hwn yn werthfawr wrth gynhyrchu polymerau a chyfansoddion organig eraill yn y diwydiant cemegol.
Cais NiwclearOherwydd ei drawsdoriad amsugno niwtron uchel, defnyddir tetraclorid hafniwm yn helaeth mewn cymwysiadau niwclear, yn enwedig mewn gwiail rheoli adweithyddion niwclear. Gall hafniwm amsugno niwtronau yn effeithiol, felly mae'n ddeunydd addas ar gyfer rheoleiddio'r broses ymhollti, sy'n helpu i wella diogelwch ac effeithlonrwydd cynhyrchu pŵer niwclear.
Dyddodiad Ffilm DenauDefnyddir tetraclorid hafniwm mewn prosesau dyddodiad anwedd cemegol (CVD) i ffurfio ffilmiau tenau o ddeunyddiau sy'n seiliedig ar hafniwm. Mae'r ffilmiau hyn yn hanfodol mewn amrywiaeth o gymwysiadau, gan gynnwys microelectroneg, opteg, a haenau amddiffynnol. Mae'r gallu i ddyddodi ffilmiau unffurf o ansawdd uchel yn gwneud HfCl4 yn werthfawr mewn prosesau gweithgynhyrchu uwch.