Tetrachlorid Hafnium | Powdr hfcl4 | CAS 13499-05-3 | pris ffatri

Tetrachlorid Hafnium | Powdr hfcl4 | CAS 13499-05-3 | Pris y ffatri yn cynnwys delwedd

Disgrifiad Byr:

Mae gan Hafnium tetrachloride gymwysiadau pwysig fel rhagflaenydd hafnium ocsid, catalydd ar gyfer synthesis organig, cymwysiadau niwclear, a dyddodiad ffilm denau, gan dynnu sylw at ei amlochredd a'i bwysigrwydd mewn amrywiol feysydd technolegol.

More details feel free to contact: erica@epomaterial.com

Anfon E -bost atom

Manylion y Cynnyrch

Tagiau cynnyrch

Disgrifiad o'r Cynnyrch

Cyflwyniad byr

Enw'r Cynnyrch: Tetrachlorid Hafnium
Cas Rhif.: 13499-05-3
Fformiwla Gyfansawdd: HFCL4
Pwysau Moleciwlaidd: 320.3
Ymddangosiad: powdr gwyn

Manyleb

Heitemau	Manyleb
Ymddangosiad	Powdr gwyn
Hfcl4+zrcl4	≥99.9%
Zr	≤200ppm
Fe	≤40ppm
Ti	≤20ppm
Si	≤40ppm
Mg	≤20ppm
Cr	≤20ppm
Ni	≤25ppm
U	≤5ppm
Al	≤60ppm

Nghais

Rhagflaenydd Hafnium Deuocsid: Defnyddir tetrachlorid Hafnium yn bennaf fel rhagflaenydd i gynhyrchu hafnium deuocsid (HFO2), deunydd ag eiddo dielectrig rhagorol. Defnyddir HFO2 yn helaeth mewn cymwysiadau dielectrig uchel ar gyfer transistorau a chynwysyddion yn y diwydiant lled-ddargludyddion. Mae HFCL4 yn hanfodol wrth weithgynhyrchu dyfeisiau electronig datblygedig oherwydd ei allu i ffurfio ffilmiau tenau o hafnium deuocsid.
Catalydd synthesis organig: Gellir defnyddio tetrachlorid Hafnium fel catalydd ar gyfer amrywiol adweithiau synthesis organig, yn enwedig polymerization olefin. Mae ei briodweddau asid Lewis yn helpu i ffurfio canolradd gweithredol, a thrwy hynny wella effeithlonrwydd adweithiau cemegol. Mae'r cais hwn yn werthfawr wrth gynhyrchu polymerau a chyfansoddion organig eraill yn y diwydiant cemegol.
Cais Niwclear: Oherwydd ei groestoriad amsugno niwtron uchel, defnyddir hafnium tetrachloride yn helaeth mewn cymwysiadau niwclear, yn enwedig mewn gwiail rheoli adweithyddion niwclear. Gall Hafnium amsugno niwtronau i bob pwrpas, felly mae'n ddeunydd addas ar gyfer rheoleiddio'r broses ymholltiad, sy'n helpu i wella diogelwch ac effeithlonrwydd cynhyrchu pŵer niwclear.
Dyddodiad Ffilm Tenau: Defnyddir tetrachlorid Hafnium mewn prosesau dyddodiad anwedd cemegol (CVD) i ffurfio ffilmiau tenau o ddeunyddiau sy'n seiliedig ar hafnium. Mae'r ffilmiau hyn yn hanfodol mewn amrywiaeth o gymwysiadau, gan gynnwys microelectroneg, opteg a haenau amddiffynnol. Mae'r gallu i adneuo ffilmiau unffurf o ansawdd uchel yn gwneud HFCL4 yn werthfawr mewn prosesau gweithgynhyrchu datblygedig.